| Model | Sensorformaat | Brandpuntsafstand (mm) | Gezichtsveld (H*V*D) | TTL(mm) | IR-filter | Opening | Berg | Eenheidsprijs | ||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| MEER+MINDER- | CH699A | 2/3" | 25 | 19,2°*14,5°*23,9° | / | / | F2.8-22 | C | Offerte aanvragen | |
| MEER+MINDER- | CH698A | 2/3" | 16 | 30,8°*23,3°*37,9° | / | / | F2.8-22 | C | Offerte aanvragen | |
| MEER+MINDER- | CH697A | 2/3" | 12 | 38,9°*29,6°*47,9° | / | / | F2.8-22 | C | Offerte aanvragen | |
| MEER+MINDER- | CH684A | 2/3" | 75 | 6,71º*5,04º*8,38° | / | / | F2.8-16 | C | Offerte aanvragen | |
| MEER+MINDER- | CH683A | 2/3" | 50 | 10,4º*8,4º*12,3° | / | / | F2.8-16 | C | Offerte aanvragen | |
| MEER+MINDER- | CH682A | 2/3" | 35 | 13,1º*9,9º*16,3° | / | / | F2.8-16 | C | Offerte aanvragen | |
| MEER+MINDER- | CH681A | 2/3" | 25 | 20,1º*15,3º*24,6° | / | / | F2.8-16 | C | Offerte aanvragen | |
| MEER+MINDER- | CH680A | 2/3" | 16 | 30,8º*23,1º*38,5° | / | / | F2.8-16 | C | Offerte aanvragen | |
| MEER+MINDER- | CH679A | 2/3" | 12 | 39,8º*30,4º*48,5° | / | / | F2.8-16 | C | Offerte aanvragen | |
| MEER+MINDER- | CH678A | 2/3" | 8 | 57,6º*44º*67,6° | / | / | F2.8-16 | C | Offerte aanvragen | |
| MEER+MINDER- | CH641B | 2/3" | 8 | 57,6º*44,9º*69,0° | / | / | F1.6-16 | C | $45Offerte aanvragen | |
| MEER+MINDER- | CH642B | 2/3" | 12 | 38,9º*29,6º | / | / | F1.4-16 | C | Offerte aanvragen | |
| MEER+MINDER- | CH643B | 2/3" | 16 | 29,9º*22,7º | / | / | F1.6-16 | C | Offerte aanvragen | |
| MEER+MINDER- | CH644B | 2/3" | 25 | 20,34º*15,78º | / | / | F1.4-16 | C | Offerte aanvragen | |
| MEER+MINDER- | CH645B | 2/3" | 35 | 13,14º*9,8º | / | / | F1.7-16 | C | Offerte aanvragen | |
| MEER+MINDER- | CH646B | 2/3" | 50 | 10,1º*7,5º | / | / | / | C | Offerte aanvragen | |
| MEER+MINDER- | CH677A | 2/3" | 6 | 73,3°*57,5° | / | / | F1.4-16 | C | Offerte aanvragen | |
2/3″machinevisielensDe ES-serie bestaat uit hogeresolutielenzen met C-vatting. Ze zijn ontworpen voor sensoren tot 2/3 inch en bieden een brede beeldhoek met minimale vervorming.
DezemachinevisielensZe kunnen worden gebruikt voor de inspectie van halfgeleiders. In combinatie met andere componenten van een machinevisiesysteem gebruiken ze diep ultraviolet licht om wafers en maskers te inspecteren en zo de benodigde hoge snelheid en resolutie te bereiken.
Metrologie en inspectie zijn essentieel voor het beheer van het productieproces van halfgeleiders. Het totale productieproces van halfgeleiderwafels omvat 400 tot 600 stappen, die in één tot twee maanden worden uitgevoerd. Als er al vroeg in het proces defecten optreden, heeft de verdere verwerking geen zin meer.
Het opsporen van defecten en het bepalen van hun locatie (positiecoördinatie) is de primaire functie van inspectieapparatuur. Machinevisiesystemen detecteren onjuiste of defecte onderdelen voordat ze in grotere assemblages worden verwerkt. Hoe sneller defecte onderdelen worden gedetecteerd en uit een productieproces worden verwijderd, hoe minder afval er is, wat de opbrengst direct verbetert. In vergelijking met handmatige methoden voor monitoring en inspectie zijn geautomatiseerde machinevisiesystemen met een hoogwaardige optische lens sneller, werken ze onafgebroken en leveren ze consistentere resultaten.